УВН

Установки типа УВН-71, УВН-74

Установки типа УВН-71, УВН-74

Во времена Советского Союза для собственных нужд электронной, авиакосмической, атомной промышленности было произведено много установок типа УВН-71 (цилиндрическая камера с вертикальным подъёмом колпака), УВН-74 (цилиндрическая горизонтальная камера с открывающейся круглой фланцевой дверью), РЭ-70, ВУ-1, ВУ-2, Оратория (камера с прямоугольной фланцевой дверью) и пр. Несмотря на то, что данные установки морально (а зачастую и физически) устарели, многие из них используются в современном производстве, а с учётом отлаженных технологических процессов переход на современные установки потребует колоссальных вложений и займёт много времени.

НПО «ГКМП» предлагает создание аналогичных установок с габаритными характеристиками камеры и подколпачной оснастки, полностью идентичными существующим, но при этом оснащённых новейшей автоматизированной системой управления, откачной вакуумной системой, системой контроля параметров процесса напыления. Данные установки заменят имеющиеся без необходимости изменения техпроцесса, а применяемые современные комплектующие и материалы позволят увеличить срок службы и упростить обслуживание и ремонтопригодность. Также возможен вариант глубокой модернизации имеющихся установок, в процессе которого изменению подвергнутся только те системы, замена которых востребована заказчиком.


Наименование параметра Значение
Количество камер в установке: 1
Форма рабочей камеры: цилиндрическая
Габариты рабочей зоны камеры:

- диаметр, мм:

- длина, мм:

150...600

200...1000

Температура подогрева подложек, оС: 50...400
Метод распыления материала: резистивный нагрев, электронно-лучевой нагрев, ионно-плазменное магнетронное распыление
Материалы подложек: металлы, сплавы, керамика, стекло, монокристаллические пластины
Материалы нанесения: металлы, сплавы, нитриды, двухкомпонентные соединения
Толщина наносимого покрытия, мкм: 0,001...500 (определяется технологией)
Возможность вакуумной очистки тлеющим разрядом: имеется
Возможность последовательного нанесения нескольких покрытий в одном процессе: имеется
Типы применяемых откачных систем: масляная (пластинчато-роторный + диффузионный насосы), безмасляная (сухой спиральный + турбомолекулярный насосы)
Типы датчиков контроля толщины напыления: вибрационный, кварцевый, оптический (фотометрический), резистивный, емкостной, комбинированный
Расположение подложек в камере: вертикальное, горизонтальное
Возможность карусельной обработки подложек: имеется
Возможность двустороннего нанесения: имеется
Возможность нанесения в ограниченном объёме: имеется

Документы

Декларации Раскрытие информации Патенты Свидетельства Сертификаты Уведомления Справочная информация Каталоги продукции
Декларация ТР ТС печи автоматизированные колпаковые
Декларация ТР ТС электропечь сопротивления ЭОН.702
Декларация ТР ТС на ПЭВ
Декларация ТР ТС на УТДС
Декларация ТР ТС на СДОМ
+7 (4832) 58-19-66