Современные технологические процессы требуют современных высокотехнологичных решений. Так, с целью создания уникальных материалов, на одном из предприятий авиакосмической промышленности при участии ведущих специалистов ряда отечественных предприятий, в 1995 году была создана современная установка для нанесения покрытий МАП-1. В последствии данная установка подвергалась неоднократной модернизации, что привело к созданию модификаций МАП-2 и МАП-3.
НПО «ГКМП» является изготовителем подобных установок с 2012 года. Опираясь на имеющийся опыт изготовления вакуумных камер, подвижных механизмов в вакууме, герметичных вводов, откачных систем, можно смело заявить, что на данный момент возможно изготовление установок нанесения покрытий в вакууме практически любой конфигурации, требуемой заказчику. Собственное высокотехнологическое производство, вакуумная лаборатория, оснащённая современным оборудованием, а также опыт конструкторских разработок в данном направлении позволяют создать требуемую установку в достаточно сжатые сроки, не завышая при этом стоимости готового оборудования.
При необходимости имеется возможность создания установки с боксовой загрузкой. Данная установка обеспечивает непрерывное нахождение изделий в вакууме, а загрузка и выгрузка происходит с помощью отдельно герметизируемых шлюзовых боксов. Таким образом, возможно получить технологическую линию с непрерывным процессом нанесения покрытий на подложки.
Наименование параметра | Значение |
Количество камер в установке: | 1 |
Форма рабочей камеры: | цилиндрическая, прямоугольная |
Габариты рабочей зоны камеры:
- диаметр, мм: - длина, мм:
|
300...1500 500...2000 |
Температура подогрева подложек, оС: | 50...400 |
Метод распыления материала: | резистивный нагрев, электронно-лучевой нагрев, ионно-плазменное магнетронное распыление |
Материалы подложек: | металлы, сплавы, керамика, стекло, монокристаллические пластины |
Материалы нанесения: | металлы, сплавы, нитриды, двухкомпонентные соединения |
Толщина наносимого покрытия, мкм: | 0,001...500 (определяется технологией) |
Возможность вакуумной очистки тлеющим разрядом: | имеется |
Возможность последовательного нанесения нескольких покрытий в одном процессе: | имеется |
Типы применяемых откачных систем: | масляная (пластинчато-роторный + диффузионный насосы), безмасляная (сухой спиральный + турбомолекулярный насосы) |
Типы датчиков контроля толщины напыления: | вибрационный, кварцевый, оптический (фотометрический), резистивный, емкостной, комбинированный |
Расположение подложек в камере: | произвольное, определяется техпроцессом |
Возможность карусельной обработки подложек: | имеется |
Возможность двустороннего нанесения: | имеется |